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（10μm）P 140標準振幅
nanoArch P 140は、面投影マイクロ立体リソグラフィ（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術を用いた高精度マイクロスケール3 D印刷を実現できる装置システムである。この技術は高精密紫外リソグラフィ投影システムを使用して、印刷する必要があるパター
製品の詳細
マイクロナノ3 D精密製造の扉を開く
BMF nanoArch® P 140システムの概要
nanoArch P 140は、面投影マイクロ立体リソグラフィ（PμSL：Projection Micro Stereolithography）技術を用いた高精度マイクロスケール3 D印刷を実現できる装置システムである。この技術は高精密紫外リソグラフィ投影システムを使用して、印刷する必要があるパターンを樹脂溝の液面に投影して、液面で樹脂を硬化して急速に微立体的に成形して、デジタルモデルから直接3次元の複雑なモデルとサンプルを加工して、サンプルの製作を完成する。この技術は成形効率が高く、印刷精度が高いなどの突出した優位性を備えており、現在最も有望なマイクロナノ加工技術の一つとされている。
科学研究レベルの3 D印刷システム
nanoArch® P 140は工業級3 D印刷システムであり、10μmの超高印刷精度と10μmの超低印刷層厚を有し、マイクロスケールとマクロサンプルの印刷を両立することができ、それによって超高精度の大幅な面のサンプル製作を実現し、大学と研究機関が科学研究及び応用革新に用いるのに非常に適している。
nanoArch® P 140システムパフォーマンス
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光源こうげん
UV-LED(405nm) |
印刷材料
ひかりじゅし |
光学精度
10μm |
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XY印刷精度
10~ 40μm |
プリント層厚
10~40μm |
サンプルサイズの印刷
19.2mm（L）*10.8mm（W）*45mm（H） |
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印刷ファイル形式
STL |
システム外形寸法
1000mm(L)×700mm(W)×1600(H)mm3 |
マシン外形寸法
650mm(L)×650mm(W)×750(H)mm3 |
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じゅうりょう
300kg |
電気的要件
200~240V AC,50/60HZ,3KW |
その他の要件
一部のプロセスは加速モジュールとコーティングモジュールを選択的に配置することができる |
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デバイスパワー
2000W |
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注：①、サンプル高さ典型10 mm、最高45 mm
印刷材料
汎用タイプ
HDDA、PEGDAなどのアクリル系感光性樹脂。
パーソナライズ
405 nm硬化帯域の感光性樹脂材料、支持透明樹脂、可撓性樹脂、硬性樹脂、ナノ粒子ドープ複合樹脂、4 D印刷樹脂、生物医療樹脂など、異なるプロセスとモデルに適合する必要があり、印刷性能を保証しない
システムの特徴
高精度
（XY印刷精度は10μmまで）
（XY印刷精度は10μmまで）
低層厚
（10μm ~ 40μmの印字層厚）
（10μm ~ 40μmの印字層厚）
マイクロスケールの大幅な面の印刷能力
光学監視システム、オートフォーカス機能
優れた光源安定性
完全なサンプル後処理アセンブリを備え、真空引き及び紫外線後硬化を含む
応用事例
オンライン照会
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